会议背景介绍：

2015年7月23-25日在哈尔滨召开国内首个光学显微成像的专题会议，为持续促进本领域技术的完善与发展，学会定于2017年8月7-9日召开第二届会议。旨在汇聚从事光学显微技术的专业人员开展学术交流，为科研工作者提供一个展示前瞻性观点，探讨关键技术的平台。会议主题不仅包括光学显微技术研究与应用的广泛领域，如：纳米显微镜技术、高光谱成像技术、非线性激发显微成像、荧光相关光谱技术、光学相干层析成像、共聚焦显微技术、白光干涉显微技术、暗场显微成像技术、差分成像技术、相衬显微技术、多光子显微技术和超分辨成像技术等；还包括与显微仪器密切相关的表面科学与工程的研究与应用进展。

征文范围及要求：

投稿网址：http://www.manuscript-cnoenet.com/index_en.htm

议题方向（不限于此，详细内容请参见投稿网站）：

专题一：光学立体显微技术及应用

专题二：表面计量与标准化

专题三：超分辨成像及衍射光学理论与应用

专题四：生物光学成像方法与应用

专题五：纳米及生物光学材料

专题六：生物光学显微系统与应用

联系人： 蔡方方

联系电话： 022-58168541

E-MAIL： cai_ff@csoe.org.cn

会议网站： http://www.csoe.org.cn/meeting/IFSM2017/